芯片是现代工业的“粮食”,光刻机则则被誉为半导体皇冠上的“明珠” , 谁能够掌握核心的芯片技术和光刻机技术 , 谁就能主导半导体产业链!大家都知道 , 全球最大的芯片制造商是台积电,最大的光刻机制造商是ASML , 但由于美国是半导体的发源地,手中掌握着大量的半导体技术 , 导致台积电和ASML都被牢牢地卡住了脖子,所以当美国制裁华为的时候 , 只需给台积电和ASML施压,就能够让华为陷入无芯可用的局面,甚至还将中国芯片卡死在了14nm制程!
【拜登也始料未及!哈工大突然宣布“捅破天”技术,外媒:ASML心都碎了】
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虽然ASML自称是一家欧洲企业,可以不遵守美国禁令,并且还在去年陆续向中国出口了78台光刻机,但自从拜登游说荷兰政府达成三方协议后,ASML还是选择了妥协,态度也是发生了180度大反转,甚至在今年3月份ASML总裁温尼克还发表了逆天言论,那就是中国自研光刻机是在破坏全球产业链!可以说在中美科技博弈中,ASML也是一颗墙头草,哪边强大就往哪里倒,一切都是利益至上 。
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然而就当拜登以为可以全面限制中国芯片和光刻机发展的时候,我国“国防七子”之一的哈工大却频频在光刻机领域取得重大突破 , 比如在今年2月份哈工大就研发出了高速超精密激光干涉仪,该技术可应用于350nm至28nm工艺的光刻机样机集成研制和性能测试 , 解决了我国光刻机测不准和测不快的难题!而在今年3月份哈工大又成功研制出了可控制谐波倍频深紫光源,打破了美国和ASML的市场垄断 , 就是ASML对此也极为关注 , 因为哈工大正在逐一打破光刻机的技术壁垒!
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但让ASML心碎的是,这才刚过去一个月,哈工大又突然宣布了一项名为“捅破天”的技术 , 那就是成功研发出了电能转化等离子体线路!根据哈工大科研团队介绍 , 这项技术可以DPP-EUV光源,如果配合此前的高速超精密激光干涉仪和极紫光源技术,那么就有可能实现7nm工艺 , 这意味着我国也将满足生产EUV光刻机的需求了!要知道上海微电子目前已经攻克了28nm光刻机的核心技术 , 并且在测试之中了,如今哈工大又突破了EUV光刻机的核心“三大件” , 可以说我国正在逐一打破EUV光刻机的技术垄断,就连外媒都纷纷表示:拜登制裁了个寂寞!
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不过 , 让人万万没想到的是 , 看到中国在光刻机领域进步如此神速,ASML最近又开始“变脸”了,就在今年4月底ASML的CEO温尼克直接表示:即便有出口限制,也不会放弃中国市场,会尽全力持续给中国出口光刻机!毫无疑问 , 随着我国光刻机的不断崛起 , ASML也感受到了威胁,为了维持自己的市场份额和营收,估计最终还是会无视美国禁令 , 向中国出售光刻机!
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但即便如此 , 我们也不能对其抱有任何幻想,因为这一切都是建立在利益关系和我们强大的基础上,一旦我国在美国的制裁中失势 , ASML这颗墙头草肯定又会站队美国,打压我国半导体!所以我们还是要始终坚持走自研之路,坚持给哈工大和上海微电子这类惬意和机构扶持和鼓励,并进我们又全球最大的市场,还有资金和人才,未来必将彻底打破美国的芯片封锁,中国科技也必将强势崛起!同意的请点赞!
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