kè胶层透过掩模被曝光在zài紫外线（UV）之下xià ， 形成chéng电diàn路图案
接下xià来lái需要一yī样叫光刻kè胶的de物质去铺pù满它的de表biǎo面 ， 光刻kè胶层随后hòu透过掩模（Mask）被曝光在zài紫外线（UV）之下xià ， 变得可kě溶 ， 期间发fā生的de化学反应 。掩模上shàng印yìn着预先设计好hǎo的de电diàn路图案 ， 紫外线透过它照在zài光刻kè胶层上shàng ， 就jiù会形成chéng微处chù理lǐ器qì的de每一yī层电diàn路图案 。
晶体tǐ管形成chéng
到了le这zhè一yī步还hái要继续往下xià走 ， 我wǒ们还hái需要继续浇上shàng光刻kè胶 ， 然后hòu光刻kè ， 并洗掉曝光的de部分fēn ， 剩下xià的de光刻kè胶还hái是shì用yòng来lái保护不bù会离子zi注入的de那部分fēn材料 。
晶体tǐ管形成

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