层硫酸铜 , 将铜离子沉淀到晶体管上 。铜离子会从正极(阳极)走向负极(阴极) 。电镀完成后 , 铜离子沉积在晶圆表面 , 形成一个薄薄的铜层 。
其中多余的铜需要先抛光掉 , 磨光晶圆表面 。然后就可以开始搭建金属层了 。晶体管级别 , 六个晶体管的组合 , 大约为500nm 。在不同晶体管之间形成复合互连金属层 , 具体布局取决于相应处理器的功能设计 。
晶圆
芯片表面看起来异常平滑 , 但事实上放大之后可以看到极其复杂的电路网络 , 打个比方 , 就像复杂
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