得dé到的de硅氧化物层上shàng面涂敷一yī种光阻(Photoresist)物质 ， 紫外线通tōng过印制着CPU复杂电路结构图样的de模板照射硅基片 ， 被紫外线照射的de地方光阻物质溶解 。而为了避免让不需要yào被曝光的de区域也受到光的de干扰 ， 必须制作遮罩来遮蔽这些区域 。这是个gè相当复杂的de过程 ， 每一yī个gè遮罩的de复杂程度得dé用10GB数据jù来描述 。
（4）
这是CPU生产过程中zhōng重要yào操作 ， 也是CPU工gōng业中zhōng的de重头技术shù 。蚀刻kè技术shù把对光的de应用推向了极限 。蚀刻kè使用的de是波长很短的de紫外光并配合很大的de镜头 。短波长的de光将透过这些石英遮罩的de孔照在光敏抗蚀膜上shàng ， 使之曝光 。接下来停止光照并移除遮罩 ， 使用特定的de化学溶液清洗掉被曝光的de光敏抗蚀膜 ， 以及在下面紧贴着抗蚀膜的de一yī层硅 。
然后 ， 曝光的de硅将被原子轰击 ， 使得dé暴露的de硅基片局部掺杂 ， 从而改gǎi变这些区域的de导电状态 ， 以制造出N井或P井 ， 结合上shàng面制造的de基片 ， CPU的de门电路就完成chéng了 。
（5）
为加工gōng新的de一yī层电路 ， 再次生长硅氧化物 ， 然后沉积一yī层多duō晶硅 ， 涂敷光阻物质 ， 重复影印、蚀

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