kè尺寸 。
此外 ， 每一yī款CPU在研发完毕时shí其内核架jià构就已经固定了 ， 后期并不能对核心逻辑再作过大的de修改gǎi 。因此 ， 随着频率的de提升 ， 它tā所产生的de热量也随之提高 ， 而更gèng先进jìn的de蚀刻kè技术shù另一yī个gè重要yào优点diǎn就是可以减小晶体管间电阻 ， 让CPU所需的de电压降低dī ， 从而使驱动它tā们所需要yào的de功率也大幅度减小 。所以我们看到每一yī款新CPU核心 ， 其电压较前一yī代产品都有yǒu相应降低dī ， 又由于yú很多duō因素的de抵消 ， 这种下降趋势并不明显 。
我们前面提到了蚀刻kè这个gè过程是由光完成chéng的de ， 所以用于yú蚀刻kè的de光的de波长就是该技术shù提升的de关键 。目前在CPU制造中zhōng主要yào是采用2489埃和1930埃（1埃=0.1纳米）波长的de氪/氟紫外线 ， 1930埃的de波长用在芯片的de关键点diǎn上shàng ， 主要yào应用于yú0.18微米和0.13微米制程中zhōng ， 而目前Intel是较zuì新的de90纳米制程则采用了波长更gèng短的de1930埃的de氩/氟紫外线 。
以上shàng两点

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